日本特許廳(專利廳)和美國專利商標局將自2015年8月起,對在日美兩國提出的專利申請開展共同審批合作。日美當局將共享調查信息,互相參考判斷結果,以大幅提高工作效率,加快審批過程。企業申請專利的所需時間也將縮短。目前,日本的專利審批需要10個月左右,今後將縮短至6個月左右。由於日美兩國的審批將同時結束,企業在兩國同時推出新産品將變得更加容易。
日美兩國專利當局最早於5月21日就共同審批框架達成共識。據稱,這將是日本特許廳首次與海外當局實行共同審批,在世界範圍內也尚屬首次。最初將以每年數百宗為上限,受理企業提出的同時審批申請,今後將逐步增加共同審批的受理數量。(日經中文網)...more
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