專利新聞

【專利】面詢新制正式上路，同步修正專利案面詢作業要點 - 2017年07月03日

　　本(106)年度7月1日起，面詢新制正式上路，同時修正專利案面詢作業要點，該要點將規範當事人申請面詢應提出面詢申請書，以避免過去因當事人意思表示不清楚造成是否辦理面詢之爭議。此外，面詢申請書也要填寫面詢事項及說明，具體陳述面詢時所欲溝通之主題，便於雙方進行面詢時之溝通。
　　為使申請人瞭解並適應面詢新制之運作，本局於今年4~6月已進行面詢改善方案之試行，該方案除採用新式面詢申請表、面詢通知書與面詢紀錄表外，專利各組副組長亦實際參與新面詢程序進行指導，協助當事人與審查人員間之雙向溝通，提升面詢品質及效率。
　　試行期間各界就參與面詢曾發生的問題，諸如申請或辦理面詢之時機、文件代收人是否具有出席人員資格、面詢程序以及紀錄方式等方面給予指教與建議。本局亦就相關問題進行研議與討論，回應意見彙整如附件。另依本方案之滿意度調查結果顯示，各界對於面詢新制給予高度肯定及支持。
　　面詢新制除了藉由「面詢事項與說明」以提升面詢效益外，未來本局亦將著手進行面詢空間與硬體設備之規劃與建置，希望透過新制措施及硬體之整合，建立更加友善及有效率之面詢溝通環境。（經濟部智慧財產局）
面詢QA彙整表

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